Hochauflösende Spurenelementanalyse für die Herstellung chlorierter Oligosane

Die PSC GmbH ist ein führender Hersteller und Entwickler von ultrahochreinen Spezialmaterialien für die Mikroelektronik. In diesem Bereich ist die Freiheit von metallischen Verunreinigungen in den Materialien von essenzieller Bedeutung, um die Qualität und Leistung der Endprodukte sicherzustellen.

Besonders herausfordernd ist die Handhabung von sehr reaktiven Oligosilanen, die unter Sauerstoffabschluss gehandelt werden müssen. Bisher steht keine ausreichend sensitive Spurenanalytik zur Verfügung, um diese Materialien auf metallische Verunreinigungen zu überprüfen. Daher ist die Entwicklung angepasster Methoden mit ausreichend niedrigen Nachweisgrenzen im ppt-Bereich (parts per trillion) notwendig, um den hohen Reinheitsanforderungen gerecht zu werden.

Zur Sicherstellung der Reinheit von chlorierten Oligosilanen strebt die PSC GmbH die Etablierung einer geeigneten, produktionsnahen Methode zur Spurenanalyse an. Ein wesentlicher Bestandteil dieses Vorhabens ist die Entwicklung einer Schutzgas-Aufschluss-Einheit. Diese Einheit ermöglicht es, auch pyrophore Materialien unter Sauerstoffausschluss chemisch aufzuschließen. Anschließend können diese Materialien mittels ICP-MS (Induktiv gekoppeltes Plasma Massenspektrometrie) analysiert werden, um eine präzise Spurenanalyse zu gewährleisten.